Проекционен печат
Подобно на филмовата фотография, чрез натискане на бутона на затвора светлината се проектира върху филма през обектива и се експонира. След това изображението се получава чрез накисване на филма в проявяващ разтвор чрез "измиване на снимки". Проекционната литография е основната литографска технология за интегрални схеми поради нейната висока ефективност и не-деструктивни предимства.
3а. Сканиращ проект Печат
Изследванията започват в края на 70-те и началото на 80-те години. Размерът на маската и шаблона в тази литографска машина е 1:1, което означава, че размерът на маската е същият като размера на шаблона върху фоторезиста. Причината, поради която се нарича сканиране, е, че светлината се предава през тесен процеп върху субстрата, като обикновено излага няколко линии наведнъж. Субстратът трябва да се премести, за да се изложат всички области със светлинна енергия.
Характеристики: Процесните възли варират от 180 nm до 130 nm, съотношение на плочата на маската 1:1, експозиция в пълен-размер.
3б. Стъпков повтарящ се печат на проект (известен също като Stepper)
Изследванията започват в края на 80-те и 90-те години на миналия век, като се използва система от лещи за проектиране на шарки от маска върху субстрат един по един върху малка площ. След всяко експониране на малка площ, субстратът ще се премести на следващата позиция, докато целият субстрат бъде експониран. Оголена зона е „изстрел“. Тъй като се проектира чрез система от лещи, обикновено се използва 5-кратна плоча, когато се използва 365nm ултравиолетова светлина, което означава, че размерът на шаблона върху плочата на маската е 5 пъти по-голям от размера на действителния фоторезист. Следователно, по-сложни шарки могат да бъдат проектирани върху плочата на маската, но това увеличава трудността при производството на призмената система.
3в. Стъпка на сканиране Печат на проект (известен също като скенер)
От края на 1990-те години този тип машини обикновено се използват в-производството на полупроводници от висок клас за процеси с диаметър по-малък или равен на 0,18 μm. По време на процеса на експониране маската се движи в една посока, докато пластината се движи синхронно в посока, перпендикулярна на нея.
Характеристики: Увеличено зрително поле за всяка експозиция; Осигурява компенсация за неравна повърхност на силициеви пластини; Подобрете равномерността на размера на цялата силиконова пластина. Въпреки това, поради необходимостта от обратно движение, изискванията за точност на механичната система са повишени. Скенерите обикновено имат по-висока производствена ефективност от другите машини за експониране и техният дизайн и производство са много сложни. Разходите за покупка и поддръжка на скенерите също са високи.
Високопрецизна двустранна-литография
Използва се главно за изследване и производство на малки и средни интегрални схеми, полупроводникови компоненти, оптоелектронни устройства, устройства с повърхностни акустични вълни, тънкослойни вериги и силови електронни устройства.
Дву{0}}странната литографска машина включва система за управление на движението, система за обработка на изображения, системен софтуер и контролен блок за обработка на входно/изходни данни.
Високопрецизна едностранна-литография
Високо{0}}прецизна литографска машина, разработена за различни колежи, университети, предприятия и изследователски институции въз основа на характеристиките на използването на литографска машина. Използва се за изследване и производство на малки и средни-интегрални схеми, полупроводникови компоненти, оптоелектронни устройства и устройства с повърхностни акустични вълни.
Състои се от работна маса за високо{0}}прецизно подравняване, бинокулярна система за микроскопичен CCD дисплей с отделено зрително поле, експонираща глава, пневматична система, вакуумна тръбопроводна система, директно свързана{1}}безмаслена вакуумна помпа, антивибрационна работна маса и кутия за аксесоари.
Разрешете проблема с разместването, причинено от невъзможността за разделяне на плочите поради не-кръгли субстрати, фрагменти и неравни повърхности на субстрата.
